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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆造成厂是在西北地,基本分娩8寸大半导体设备晶圆,平均废污水污染物出量约800吨。犹豫分娩进程中操作丰富氢氧化钠做出晶圆蚀刻,造成废污硫酸铜溶液氟化物溶度将高达200-300mg/L,远超国家地区污染物出细则(10mg/L这)。 焦化废水的成分及由来 工业废水主要是位于这三个部门: 晶圆蚀刻环节 :含高溶度氟化物(HF)、硝酸银及少量的巨资属 物理化学物理增加光泽(CMP)工业废水 :含納米级硅颗粒剂、有机质络合剂 系统擦洗废渣 :含异丙醇、氧化还原电位等巧妙物 整理新工艺具体步骤 应用"化学式沉积出的+沥青混凝土沉积出的+深层次活性炭过滤"三类解决控制系统: 一級加工处理 :加药系统氯化钙和氢氧化物钙,进行氟化钙沉定,氟化物除掉率达85% 三级处置 :加上PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙乙烯酰胺),删去橡胶胶体部分态生态破坏物 三级职业资格证书进行处理 :进行多物料活力性炭过滤和活力性炭吸咐,喷水氟化物氨水浓度稳定性高在8mg/L下 重要的仪器也包括:pH自行调结系统化、斜管水解池、板框设备(污水脱水处理)。 以后功效 项目流程运动五年期监测系统统计资料展现: 氟化物最低值氧化还原电位:7.2mg/L(高出国家条件) COD洗去率:92% 淤泥水分含量率:≤65% 年回收公司氟化钙副产的约150吨,推动物资化凭借

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